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一、离子清洗机的工作原理是什么?

等离子清洗机的工作原理是通过等离子体中的活性粒子对物体表面进行“活化作用”，以达到去除表面污渍的目的。这种清洗技术不仅能够处理金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，还能实现对整体、局部以及复杂结构的清洗。

等离子清洗机的工作过程包括：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。等离子清洗的最大特点在于无论处理对象的基材类型如何，都能进行处理。

等离子清洗技术还具有高精度控制、不产生表面损伤层、不污染环境等优点。它可以通过数控技术实现自动化清洗，同时具有高精度的时间控制能力。清洗效果显著，适用于各种材料的清洗。

根据反应类型的不同，等离子清洗可以分为物理反应和化学反应两种类型。物理反应主要依靠离子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面；而化学反应则涉及活性粒子与污染物反应生成易挥发性物质。

典型的物理反应清洗工艺是氩气等离子体清洗，它通过离子轰击使表面清洁。而氧气等离子体清洗则属于化学反应清洗工艺，通过氧自由基与碳氢化合物反应生成易挥发物，从而去除表面污染物。

二、等离子清洗机清洗原理

等离子清洗机清洗原理是：

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面以达到清洗目的。

等离子清洗机的清洗原理

原创2023-10-28 07:28·CPT等离子技术等离子清洗机在3C、医疗、半导体、LED、电子电路、新能源、汽车制造、航天航空等领域中有着广泛的应用及卓越的清洗效果，那么，等离子清洗机主要的清洗原理是怎样的呢。

一、

工业产品的工艺制作过程中，表面的机械处理和化学清洗后的残留物，往往是有机物，例如，油、油脂、脱模剂和硅树脂等。这些残留物会影响所有的下游加工步骤。在大多数情况下，这些物质可以在氧等离子体(通常也是空气等离子体)中去除。激发态的氧分子和自由基具有很高的活性，能够反应形成非常稳定的键。电子的碰撞以及紫外线辐射将有机残留物的聚合物链断开。氧自由基会立即占据释放出来的化学键，阻止聚合物碎片重新结合，同时聚合出挥发性物质逸散。

二、在几乎所有金属的表面，即使只是短暂地暴露在空气中，也会形成氧化层。然而，氧化层影响了后续处理，特别是焊接和粘接。在氢等离子体中，被激发的氢分子、离子和自由基与氧化物中的氧反应形成水蒸气。

三、盐和陶瓷物质是氧等离子体和氢等离子体不能去除的。在这些情况下，使用氩等离子体中的离子轰击物理蚀刻，即通过离子轰击的动能使原子、自由基和分子从表面断裂。这种处理过程不是选择性的，这意味着它几乎适用于所有基质。因此，几乎所有物质都可以通过足够强的氩等离子体处理去除。然而，氩离子轰击也将蚀刻基板本身和去除基板颗粒。

等离子清洗设备就是通过激发电场电离气体产生等离子体，利用等离子体中富含的游离粒子与基材表面发生微观反应，从而产生清洁、活化等效果，有效提升基材表面的清洁度和表面张力，益于后续工艺的效果提升。

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