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纯水设备清洁记录，正常情况下，纯水设备是2个月清洁一次，纯水在净化纯水的过程中，会将残留物质留在反渗透膜上，砂罐，碳罐，精密过滤器里，由此，隔一段时间就需要清洗，这样才能保证设备的正常运行和出水稳定。
纯水设备的清洗
1.纯水管道中纯水循环预冲洗：
手动启动制水系统，将纯水箱内制入约三分之二的纯水时，启动纯水泵(输水泵)加以循环，5分钟后关闭纯水泵，排尽纯水箱内的水和每个U型弯管道内的积水，完后关闭排水阀门。
2.纯水冲洗：
启动制水系统，将纯水箱内制入约三分之二的纯水时，启动纯水泵(输水泵)加以循环，将纯水输送管道各使用点U型弯下的用水阀同时打开，使其处于小半开状态少量水外流，测试每个取样口的PH、电导率相一致时关闭纯水泵，排尽纯水箱内的水和每个U型弯管道内的积水，完后关闭排水阀门。
3.纯水最终冲洗：
手动启动制水系统，将纯水箱内制满纯水时，启动纯水泵，对纯水箱和管道循环冲洗30分钟后，打开纯水箱排污阀和各使用点进行排空，完后关闭排水阀门。排空后，继续按照上一步骤制备纯水，按以上冲洗方法对纯水箱和管道进行循环冲洗、排放，直至二级反渗透产水、纯水箱、总送、总回的电导率符合标准要求时才能确认本次清洗排污工作结束。
纯水设备清洁记录方法及注意事项：
1.记录清洗前所有数据。
2.分离设备与其他纯水设备的连接管路。
3.连接清洗装置，使清洗泵通过浓水管路进入模块再回到清洗水箱，浓水进、出阀开启，关闭淡水进水阀和产水阀。
4.在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5.启动清洗泵，调节浓水进水阀，以规定的流量循环清洗。
6.停止清洗泵，排除清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7.向清洗水箱连续注入清洗(反渗透纯化水设备产水)，启动清洗泵连续清洗。
8.打开进水阀和产水阀，同时对两个水室进行冲洗。
9.检测浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
10.各个阀门，恢复原始各设备流量数据。
11.恢复各个管路与其他系统的连接。
EDI高纯水设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，被广泛应用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室等众多领域。其能够制取出高达10-18.2MΩ.CM的超纯水，满足了不同行业对高纯水的高标准需求。
在微电子工业中，高纯水是芯片制造过程中不可或缺的关键原料，直接关系到产品的性能与稳定性。EDI设备通过电渗析原理，将离子交换膜与离子选择性树脂相结合，实现对水中的离子有效去除，从而提供纯净度极高的超纯水。
半导体工业同样对高纯水有极高要求，从晶片清洗到制造过程中的化学反应，每一环节都离不开纯净的水。EDI设备的高效除盐能力，确保了半导体制造过程中的纯净水质，对于提升产品性能、降低生产成本具有重要意义。
发电工业中，锅炉补给水的纯净度直接影响到热效率与设备寿命。EDI设备能够去除水中的离子杂质，提供纯净的补给水，保证了发电系统的稳定运行与高效能。
在制药行业中，高纯水是生产高质量药品的必要条件之一。从药物配制到清洗设备，都需要纯净的水以保证药品的纯度和安全。EDI设备通过精细的除盐过程，确保了制药过程中使用的水质量，支持了药品生产的高标准。
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