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晶圆清洗设备分为单晶圆与槽式两种，其中日本在单晶圆清洗设备市场占有率高达70%，东京电子TEL和迪恩士SCREEN为行业龙头。目前，日本单片式清洗设备主要制造商为SCREEN，PHT和MTK。SCREEN规模较大，而MTK则主要通过代理商模式进入中国市场，如日本丰港株式会社及其中国子公司和合作制造商。PHT则通过在中国进行国产化进入市场。
MTK专攻Si、SiC晶圆以及GaN衬底的半导体清洗设备与臭氧水发生器制造与销售，产品广泛应用于东芝、索尼、NEC、富士通、瑞萨等硅晶圆及碳化硅制造商。在中国市场，MTK拥有广泛的应用业绩。
PHT专注于8寸单晶清洗设备，利用其Si晶圆清洗设备经验，擅长单片式清洗设备、超音波清洗设备与臭氧水发生器设备的制造组装与售后维修。在单片式清洗设备领域，PHT技术水平处于日本先进水平。其技术成果涉及陶瓷、玻璃材料的制造、分析与表面精细加工，特别是使用HF液体/气体进行蚀刻、精密清洗/干燥以及高纯度化学液体的处理。在半导体制造技术方面，PHT掌握了用于溅射成膜、精密清洗、精密干燥与镀（铜镀）的制造工艺技术、制造设备技术与生产线操作系统。此外，PHT还管理着电镀工艺团队，能够开发和交付用于天气环境模拟的CPU（LSI），该处理器具有世界上最快的处理速度。
日本半导体清洗设备巨头SANEI半导体株式会社，顺应市场趋势，于2022年10月在中国苏州宣告新里程碑：中聚科芯的成立，标志着其战略重心转移至中国，将为中国及东南亚半导体企业提供关键技术转移和本土化生产服务。</
在深入了解并拓展中国市场的两年后，SANEI半导体与日本PHT株式会社紧密合作，不仅建立了一个全新的制造与销售子公司，而且是日本首个以实现技术转移与IPO为目标的晶圆清洗设备制造商。这不仅是一次日本与中国的深度合作，更是半导体领域互惠共赢的实质性尝试。
苏州基地展示实力</
位于江苏省苏州市高新区的中聚科芯，拥有先进的大型无尘车间，初期面积达到2000平方米，千级无尘组装车间已投入运营。初期阶段，设备组装主要在日本SANEI的协助下完成，同时进行中国员工的技术培训。总经理戴晓松表示，中国半导体设备市场潜力巨大，短短几周内已与15多家企业达成合作，公司正迅速推进自主研发和生产。
技术与应用深度解析</
晶圆清洗设备在硅衬底工艺中起着关键作用，清洗过程旨在去除前道和后道工序中的污染物，提高成品良率。特别是RCA清洗工艺，通过精确控制污染颗粒和金属附着物，确保半导体制造的高质量。对于半导体行业来说，清洁是提高芯片性能和降低成本的关键步骤。
日本SANEI半导体凭借30多年的交付业绩，已累计交付400多台清洗设备，其产品覆盖物联网、新能源汽车和5G手机等新兴产业的需求。中聚科芯正从中国半导体市场收获更多订单，但产能受限于日本供应链，未来将加速在中国的布局。
中日技术联盟的诞生</
苏州中聚科芯是由中国科学院和清华大学半导体专家与日本PHT株式会社共同打造的合资企业，立足于国家战略支持的半导体设备产业集群。在国际形势和科技竞争加剧的背景下，中聚科芯致力于高端晶圆清洗技术的引进与本土化，将日本SANEI和PHOENIXENGINEERING的先进清洗技术融入国内，推动产业进步。
展望未来</
日本SANEI半导体凭借其在晶圆清洗领域的深厚积累，致力于2025年前实现清洗设备技术的全面国产化，为中国的半导体设备发展贡献力量。而中聚科芯的苏州制造基地，已矗立在华金路上，占地面积5000平方米，无尘室2000平方米，为本土和国际客户提供了强有力的技术支持。
金融界2024年6月4日消息，天眼查知识产权信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“晶圆清洗方法及装置“，公开号CN202211540729.9，申请日期为2022年12月。
专利摘要显示，本申请揭示了一种对抛光后的晶圆表面进行清洗的晶圆清洗方法和装置。晶圆清洗方法包括：S101，采用DIW对晶圆表面进行润湿；S102，采用具有第一预设温度的SC1对晶圆表面进行喷淋；S103，继续采用具有第一预设温度的SC1对晶圆表面进行喷淋，并同时控制毛刷对晶圆表面进行刷洗；S104，采用具有第二预设温度的DIW对刷洗之后的晶圆表面进行喷淋清洗第一预设时间；S105，循环执行步骤S103至S104，直至第一预设次数；S106，采用DHF与DIO3对执行步骤S105之后的晶圆表面进行交替清洗。通过上述方式，在多次连续刷洗中增加第二预设温度的DIW喷淋清洗的过渡步骤，充分去除单次刷洗后晶圆表面的残留物质，有效提高了对抛光后晶圆的清洗效果。
本文源自金融界
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